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牛晓龙:为5G衬底技术突破关键技术难题

2023-11-03

牛晓龙,河北同光半导体股份有限公司高级工程师,长期致力于半导体材料的研发和生产,曾参与研制出国内最早可用于区熔法的11N超高纯多晶硅,多次参与主持省部级科技项目,获得多项专利授权及保定市科技进步一等奖,先后获评保定市先进个人、河北省劳动模范、全国五一劳动奖章等荣誉。2022年,获评首届“保定工匠”。

今年42岁的牛晓龙从2009年开始从事多晶硅制造工艺研发工作,采用硅烷热分解法制备高纯多晶硅,而国内当时只能生产光伏级的多晶硅(6N)。历经3年的持续研发,他和项目团队先后解决了杂质含量高、气孔夹杂等难题,共同研制出可用于区熔法制备单晶硅的原材料——超高纯多晶硅,其纯度高达11N以上,填补了国内空白。

2016年,牛晓龙加入同光半导体,开始从事碳化硅衬底材料的研制工作。当时国外为了制约中国的5G技术和相关行业发展,对高纯半绝缘衬底产品实施禁运。受下游客户的委托,他和团队成员开始攻关高纯半绝缘碳化硅衬底的项目。


首先要解决高纯碳化硅原料的问题。牛晓龙和团队经过细致的理论分析,翻阅大量的文献,历经无数次试验,最终获得高品质的高纯碳化硅原料,掌握了高效碳化硅提纯的关键技术,解决了衬底这一领域的“卡脖子”问题,为国内5G建设能够顺利推进提供了坚实的基础,相关的技术成果也获得了国家发明专利授权。

其次是缺乏产品缺陷检测的相关设备。在碳化硅衬底行业,相关的缺陷检测设备投入高达千万以上,这对于当时的企业来说困难很大。“只要思想不滑坡,办法总比困难多”,为此,牛晓龙想了个“笨办法”:将肉眼能分辨出来的缺陷进行分类并进行人工“画像”,总结归纳出每种缺陷的分布规律,再将各种类型的缺陷用专业检测设备一一确定下来。经过几次人眼与专业设备的反复“校准”,直接用肉眼就可以判别出多种类型的缺陷,准确率高达90%以上。整个技术团队仅用一年多的时间,就攻克了4英寸碳化硅主要缺陷的控制技术,及时将合格的衬底样品交付并通过了客户的验证。

由于工作表现突出,河北同光半导体股份有限公司的技术团队曾获得河北省“高层次创新团队”荣誉。未来,牛晓龙将脚踏实地,继续攻克一个又一个技术难题。

来源:中工网